リソグラフィ専門委員会主催

SEAJリソグラフィ専門委員会では、最新のリソ技術や、Logic、DRAM、SCM等のデバイス米の技術、市場動向の講演会開催を通じて、最新情報を会員企業の皆様へ提供し、相互の影響と周辺技術への影響を議論する場を提供することを目的としています。

ナノインプリントリソグラフィ技術動向 3/7

(1)Nanoimprint Lithography Tool for Semiconductor Manufacturing

キヤノン株式会社 半導体機器第三PLMセンター 

  半導体機器NGLシステム技術開発部  部長  酒井 啓太 様


 次世代リソグラフィ技術の一つであるナノインプリントリソグラフィ(NIL)は、優れた解像性能を有し、低CoOを実現する技術である。本講演では、弊社が先端デバイスへの適用に向けて開発しているNIL装置について、性能およびコスト上の利点、装置に搭載した技術を紹介する。

(2)  Updates of Nano Imprint Lithography

東芝メモリ株式会社   
  プロセス技術研究開発センター 技監  東木 達彦 様      

 ナノインプリントリソグラフィ(NIL)は15nm ハーフピッチ以下の微細パターンを形成できるため、マルチパターンニングからシングルパターニングへ工程数を減らし、半導体デバイスの製造コストを削減することが可能である。併せて、マスクパターンを忠実に再現できるため、デバイス性能の向上も見込むことができる。デバイス量産に向けたNILの開発状況の紹介と共に、次世代デバイスに向け
た展望を述べる。
3月7日(木)
■ スケジュール■
13:45-14:00  受 付
14:00-15:00  (1) キヤノン㈱ 酒井 啓太 様
15:00-15:10  休 憩
15:10-16:10  (2)東芝メモリ㈱ 東木 達彦 様 
16:10-17:00  閉会挨拶・アンケート・名刺交換
■会場:東京貨物運送健康保険組合 健保会館
   (東貨健保)5F 大会議室
   新宿区四谷1-23 TEL:03-3359-8161
 JR総武線、中央線および東京メトロ丸ノ内線、南北線「四ツ谷」駅下車。
    徒歩5,6分です。
 ★会場にはWifi、電源コードがございません。
  必要な方はご用意くださいますようお願いいたします。
 ★会場内でのご飲食は可能ですが、ご飲食の際のゴミはお持ち帰り下さい
  ますようご協力をお願いいたします。
■費用: 無料

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